La créatrice haïtienne Jovana Louis a annoncé l’ouverture d’un casting réservé exclusivement à des mannequins professionnelles d’origine haïtienne, en amont de son prochain défilé à la New York Fashion Week.
Le casting se tiendra le 6 février 2026 à New York et s’adresse à des mannequins féminins professionnelles. Les candidates doivent soumettre des digitals ou polaroids — de préférence sans maquillage — accompagnés de leur taille, mensurations et coordonnées. Les dossiers sont à transmettre à l’adresse info@jovanalouis.com ; les profils retenus seront contactés directement par l’équipe de la créatrice.
Connue pour un travail articulant esthétique contemporaine, héritage culturel et savoir-faire artisanal, Jovana Louis s’impose progressivement sur la scène internationale comme une figure de la mode diasporique haïtienne. Cette initiative s’inscrit dans une dynamique plus large visant à renforcer la visibilité des identités historiquement marginalisées au sein des grandes plateformes de la mode mondiale.
En réservant son casting à des mannequins haïtiennes, la créatrice affirme une démarche à la fois professionnelle et symbolique, mobilisant la mode comme espace de narration identitaire et de reconnaissance culturelle. L’annonce a suscité un écho favorable sur les réseaux sociaux, où elle est perçue comme un geste fort en faveur de la représentation et de la fierté diasporique.
Événement majeur du calendrier international, la New York Fashion Week demeure une vitrine stratégique pour les créateurs, attirant médias, acheteurs et acteurs culturels du monde entier.